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中国科学院重庆绿色智能技术研究院机构知识库
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Continuous microstructure etching process polyimide based moving mask exposure
期刊论文
Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2015, 卷号: 44, 期号: 9
作者:
Xie, Yu-Ping
;
Wu, Peng
;
Yang, Zheng
;
Yin, Shao-Yun
;
Du, Chun-Lei
;
Dong, Lian-He
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提交时间：2018/03/16
